ASML官网显示：7nm高端DUV光刻机可继续出口

7月3日消息，荷兰政府最近宣布了一项新规定，限制了某些先进半导体设备的出口。据该规定，从9月1日起，荷兰的先进芯片制造设备公司在出口之前必须获得许可证。这一决定对于半导体产业具有重要意义。

在此次限制措施中，荷兰半导体设备制造商ASML被特别提及。ASML在其官网发表声明称，在未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统时，将需要向荷兰政府申请出口许可证。需要注意的是，此前ASML的EUV系统的销售已经受到限制。这一措施显示了荷兰政府对于先进半导体技术的高度关注和控制。

据了解，ASML目前在售的主流浸没式DUV光刻机共有三款产品，分别是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i。其中，ASML在今年3月表示，预计2000i和2050i这两款产品将受到荷兰政府的出口限制。然而，根据ASML官网上关于TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，该款浸润式DUV光刻机并不在限制范围内。

TWINSCAN NXT:1980Di在分辨率方面具备高度优势，其一次曝光的分辨率大于等于38纳米，支持的工艺达到7纳米左右。值得注意的是，光刻机可以通过多次曝光来实现更小尺寸的芯片制造。虽然使用TWINSCAN NXT:1980Di可能会增加步骤复杂性、提高成本并降低良率，但主要用于生产14纳米及以上工艺的芯片，对于14纳米以下工艺的生产较少。因此，尽管ASML的部分产品受到限制，公司仍能保持一定程度的竞争力。

这一限制措施对于半导体行业的发展将产生重要影响。尽管ASML是全球领先的半导体设备制造商之一，但其产品的限制可能会对全球芯片供应链带来一定冲击。这也提醒着各国半导体企业和相关产业链上下游企业，加强自主研发和创新，以减少对特定供应商的依赖，提高产业的自主可控能力。